★該立式真空鍍膜設備可分為單門或雙門蒸發鍍膜機、單門或雙門磁控鍍膜機、單門或雙門磁控蒸發組合AF鍍膜機，蒸發鍍膜機可蒸發鍍鋁絲和鋁片。磁控鍍膜機可鍍的工藝膜系有：金膜、銀膜、鋁膜、鈦金膜、不銹鋼膜等單質膜和氧化膜、復合膜、增透膜、增亮膜、光學膜、ITO導電膜、EMI屏蔽膜等等。設備能生產的產品有銀鏡、鋁鏡、彩色玻璃、工藝玻璃、光伏玻璃、光電玻璃、ITO導電玻璃、非導玻璃等，以及PC、PVC、PET等材料表面鍍AR、AF、ITO、非導等膜(mo)和金(jin)屬單(dan)質膜(mo)等工(gong)藝(yi)。設(she)備主(zhu)要應(ying)用在手機(ji)(ji)鏡片和手機(ji)(ji)后(hou)蓋鍍膜、電子(zi)、電器、軍工、家電、五金、玩具、汽車(che)、建筑、建材、燈飾、裝飾等眾多行業領域。本設備的優點：抽速快及穩定、產量高、轉動結構運行平穩不卡頓。高真空部分可根據客戶實際需要全選擇油擴散泵或分子泵，或兩者搭配使用；設計有防返油機構，減少對產品的污染；使用國內或國外知名品牌真空泵機組，加上人性化結構設計理念和智能控制及顯示系統，如能增加使用深冷系統，會加快抽速時間及產量，使設備盡善盡美。

★工藝(yi)氣體：氬氣(qi)、氧氣(qi)、氮氣(qi)等(deng)，具體看生(sheng)產(chan)的產(chan)品而定。

★靶材(cai)材(cai)質：金、銀、銅、鋁(lv)、鈦、鋯、硅、鎳、鉻、錫(xi)、銦、鈮、不銹(xiu)鋼等(deng)(deng)或錫(xi)銦、硅鋁(lv)、鎳鉻等(deng)(deng)合金、鋁(lv)絲、鋁(lv)片。

★磁控濺射電源：直流電源、中頻電源、離子轟擊電源、離子源電源（按客戶需要而定）、蒸發器。

★該立式磁控蒸發鍍膜設備的結構：

可分為單開門或雙開門結構，

前級有精(jing)抽(chou)真(zhen)空(kong)(kong)泵機組、粗抽(chou)真(zhen)空(kong)(kong)泵機組、粗抽(chou)閥(fa)、前置閥(fa)、高(gao)真(zhen)空(kong)(kong)閥(fa)、磁控濺射蒸發(fa)室(shi)（單室(shi)時(shi)轉動工(gong)件(jian)(jian)架裝(zhuang)在固定門里；如是雙開門時(shi)轉動工(gong)件(jian)(jian)架裝(zhuang)在兩個活動門里）-----有磁控(kong)濺(jian)射陰(yin)極靶或蒸(zheng)發器或者磁控濺射陰極靶和蒸(zheng)發器組合，氣體系統和離子轟擊等。

★該立(li)式磁控蒸發(fa)鍍膜設備(bei)的(de)工作流程：

在工(gong)(gong)件架上(shang)(shang)掛(gua)上(shang)(shang)或貼上(shang)(shang)基片-----如(ru)有(you)蒸(zheng)發(fa)需裝上(shang)(shang)鋁(lv)絲或藥丸子(zi)-----關(guan)上(shang)(shang)大(da)門，開(kai)(kai)真(zhen)空(kong)泵進行(xing)(xing)抽真(zhen)空(kong)----如(ru)果有(you)轟(hong)(hong)擊（有(you)時(shi)需要充入氬氣(qi)(qi)）開(kai)(kai)轟(hong)(hong)擊開(kai)(kai)轉動-----轟(hong)(hong)擊結束后繼續抽真(zhen)空(kong)直至真(zhen)空(kong)度(du)5×10-2Pa左右或更高，開(kai)(kai)蒸(zheng)發(fa)器進行(xing)(xing)蒸(zheng)發(fa)同時(shi)開(kai)(kai)工(gong)(gong)件架轉動（如(ru)果是磁(ci)(ci)控(kong)鍍膜的(de)話，充工(gong)(gong)作(zuo)氣(qi)(qi)體開(kai)(kai)磁(ci)(ci)控(kong)靶同時(shi)工(gong)(gong)件架轉動），-----鍍膜結束后，關(guan)閉所有(you)閥(fa)門，打開(kai)(kai)真(zhen)空(kong)室放氣(qi)(qi)閥(fa)放氣(qi)(qi)，打開(kai)(kai)大(da)門取下(xia)工(gong)(gong)件。重新掛(gua)上(shang)(shang)新的(de)工(gong)(gong)件（如(ru)此循環工(gong)(gong)作(zuo)）。