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單銀/雙銀Low-E鍍膜生產線

單銀/雙銀Low-E鍍膜生產線

  • 所屬分類:低輻射(she)Low-E鍍膜生(sheng)產(chan)線(xian)
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  • 發布日期:2021-01-19 15:30:13
  • 產品概述
  • 性能特點
  • 技術參數

單(dan)銀/雙銀Low-E鍍膜生產線

1、Low-E鍍膜(mo)生產工藝及其(qi)原理

  1.1概述

    鍍膜玻璃的生產方法很多,主要有真空磁控濺射法真空蒸發法、化學氣相沉積法以及溶膠-凝膠法等。

而其中目前國內外Low-E玻璃生產應用廣泛的方式是真空磁控濺射法,特別是建筑Low-E玻璃。磁控濺射鍍膜玻璃利用磁控濺射技術,可以設計制造多層復雜膜系,可在透明的玻璃基片上鍍出多種顏色,膜層的耐腐蝕和耐磨性能較好。磁控濺射法是濺射速率高,性能比較穩定的鍍膜方法。

1.2真空磁控濺射的基本(ben)原理

真空磁(ci)控(kong)濺射法是將(jiang)玻璃置于(yu)(yu)真空室內,并通入工(gong)作氣(qi)(qi)體(氬(ya)氣(qi)(qi)、氮氣(qi)(qi)和氧氣(qi)(qi)等(deng)),當在濺射陰(yin)極(ji)、陽極(ji)間通電(dian)時,由于(yu)(yu)高壓電(dian)場(chang)的作用使氣(qi)(qi)體(氬(ya)氣(qi)(qi))分(fen)子(zi)(zi)電(dian)離,帶正電(dian)的氬(ya)粒子(zi)(zi)將(jiang)在電(dian)場(chang)的加(jia)速下,向(xiang)陰(yin)極(ji)靶(ba)材(cai)表(biao)(biao)面(mian)(mian)撞擊,將(jiang)靶(ba)材(cai)表(biao)(biao)面(mian)(mian)的金屬離子(zi)(zi)擊出(chu),以逐漸(jian)沉積(ji)在玻璃表(biao)(biao)面(mian)(mian)形成薄(bo)膜。

在濺射過(guo)程中,大部分能量轉變(bian)成熱量,因此(ci)需要(yao)對真空濺射室進行水冷卻。

濺(jian)射工藝可(ke)以(yi)在大面積的基片上進行均勻鍍膜。

 2、Low-E鍍膜生產線結(jie)構和(he)工藝流程

Low-E鍍膜整線由以下部分構成:

手動裝片臺 ---自動上片(pian)臺 ----過渡臺(一) ---- 清洗機 ----原片(pian)觀(guan)察臺(tai)----橫向定位臺----進片臺----進片室Z1----進口精抽室Z2----- 進口(kou)過(guo)渡室Z3 ---- 濺射(she)室Z4-1、2、3、4、5、6、7、8等(濺射室的多少視工藝而定)-----出口過渡(du)室(shi)Z5---- 出口精抽室Z6---- 出(chu)片室(shi)C7----出片臺 ----過渡(du)臺(tai)(二)---- 光(guang)譜儀過渡臺----檢驗室-----噴粉機---- 過(guo)渡臺(三)--- 自動下片(pian)臺----手動卸片臺

本設備采用(yong)七室6鎖結構(gou):七室結構(gou)優于五室結構(gou),避免了(le)玻(bo)璃傳入(ru)濺射區域時附帶雜質(zhi)氣體對(dui)濺射區域穩態(tai)的沖(chong)擊和污染,成膜(mo)純凈度高(gao),膜(mo)結構(gou)牢(lao)固,抗腐蝕及(ji)紫外(wai)照(zhao)射性(xing)強(qiang),理(li)化(hua)性(xing)能(neng)好。在陰(yin)(yin)極選用(yong)上,使(shi)用(yong)平面陰(yin)(yin)極和直流(liu)電源,采用(yong)旋轉陰(yin)(yin)極和中頻電源,會使(shi)鍍膜(mo)工藝更穩定,膜(mo)層更致密。

圖1-1,圖1-2, Low-E鍍膜生(sheng)產(chan)線(xian)

單銀/雙銀Low-E鍍膜生產線單銀/雙銀Low-E鍍膜生產線

3、Low-E鍍膜生產線(xian)的性(xing)能及其參數(shu)

     正因為看到(dao)國(guo)內外(wai)還(huan)存在一(yi)些差距,認識到(dao)國(guo)內廠家過(guo)去的一(yi)些不足,鴻利(li)達公司迎(ying)難而上(shang),通過(guo)引(yin)進人(ren)才和(he)聘請大學教(jiao)授,與科研機(ji)構合作,積極研發(fa)(fa)、改進。現在我們研發(fa)(fa)制造的Low-E鍍膜設備技術水平躍上一個新臺階,達到國內先進水平。具體性能和參數如下表所示:

3.1玻璃規格(ge)

可鍍玻璃尺寸

尺(chi)寸

單(dan)位

較大可達

2440X3660

mm

較小(xiao)可達

300X900

mm

可鍍(du)玻璃(li)厚度

3-19

mm

3.2玻(bo)璃原片要求

1、玻璃(li)原片必須干凈、無(wu)劃傷、無(wu)刮痕(hen)、無(wu)氣泡等缺(que)陷,玻璃(li)放(fang)置時(shi)間不要超過二周。

2、玻璃原(yuan)片表(biao)面(mian)必(bi)須(xu)無油、無膠帶、無紙(zhi)痕、無錫點(dian)等殘留(liu)物。

3、玻璃原(yuan)片不得雨水淋(lin)、回(hui)潮、發(fa)霉。

4、單、雙銀可鋼(gang)化(hua)鍍膜(mo)在(zai)鋼(gang)化(hua)前玻璃需清洗干凈,以(yi)防鋼(gang)化(hua)過(guo)程中造成玻璃表面破(po)壞(huai)而致鍍膜(mo)層有針眼或膜(mo)層耐磨性降低。

單銀/雙銀Low-E鍍膜生產線

圖2-1 手動上、下片(pian)臺

3.3過渡臺(tai)(一(yi))

單銀/雙銀Low-E鍍膜生產線

3.4、前清洗機

由于Low-E鍍(du)(du)膜玻璃(li)在鍍(du)(du)膜前(qian)要(yao)求基片(pian)表面(mian)嚴格潔(jie)凈、干(gan)燥,因此在玻璃(li)基片(pian)進行鍍(du)(du)膜前(qian)必須(xu)清(qing)(qing)(qing)洗。為(wei)此專門(men)配置前(qian)清(qing)(qing)(qing)洗機用(yong)來清(qing)(qing)(qing)洗鍍(du)(du)膜玻璃(li)基片(pian)。清(qing)(qing)(qing)洗機采用(yong)仿本特勒清(qing)(qing)(qing)洗機,清(qing)(qing)(qing)洗、風(feng)干(gan)一次完成。配多道毛(mao)刷盤和風(feng)刀(dao),先(xian)清(qing)(qing)(qing)洗,后(hou)風(feng)刀(dao)吹(chui)干(gan)。清(qing)(qing)(qing)洗毛(mao)刷盤可(ke)以(yi)(yi)根據清(qing)(qing)(qing)洗效果上下(xia)調(diao)整(zheng),以(yi)(yi)保證清(qing)(qing)(qing)潔(jie)干(gan)凈。風(feng)刀(dao)角(jiao)度也可(ke)以(yi)(yi)調(diao)整(zheng),以(yi)(yi)達到好的吹(chui)干(gan)角(jiao)度。吹(chui)風(feng)必須(xu)干(gan)凈、無塵(chen)、無油(you),為(wei)此配一套(tao)風(feng)機和過濾系(xi)統,風(feng)機風(feng)量要(yao)求足夠大,過濾網(wang)根據過濾效果安裝多道,并(bing)且日常(chang)維(wei)護要(yao)求達一定(ding)期限就(jiu)要(yao)求跟(gen)換(huan)過濾棉,保證吹(chui)風(feng)無污染。

3.5、電源

本鍍膜線采用進口電源,穩(wen)定(ding)性好,控制準確、可(ke)靠,并具有保護功能。

單銀/雙銀Low-E鍍膜生產線          單銀/雙銀Low-E鍍膜生產線

5-1真空控制柜                                    圖(tu)5-2低真空控制柜

控制電路系統大約上(shang)千(qian)個以上(shang)的(de)數字輸(shu)(shu)入和數字輸(shu)(shu)出,100個以上模(mo)擬輸入及(ji)100個模擬輸出(chu)通(tong)過工業控制機由(you)PLC控制,輸(shu)(shu)入(ru)輸(shu)(shu)出模塊(kuai)安裝(zhuang)于控制室及其(qi)它(ta)開關柜里(li), 計算機,PLC及相(xiang)應(ying)測量儀器(qi)(qi)控(kong)制系統(tong)安裝于主(zhu)控(kong)房(fang)控(kong)制里(li),液晶(jing)顯示器(qi)(qi),鍵盤及鼠標放置于控(kong)制房(fang)操作(zuo)臺上。

單銀/雙銀Low-E鍍膜生產線

圖5-3 控制室操作系統布局

傳(chuan)動控(kong)制(zhi):控(kong)制(zhi)準確、可靠,根(gen)據(ju)具體情況而(er)快、慢速(su)控(kong)制(zhi),生產(chan)效(xiao)率高。

3.6、在(zai)線光學(xue)檢(jian)測系(xi)統(tong)  1套)

 在線光學測量系統是檢測鍍膜玻璃成品的設備,該檢測系統使得產品真正做到光譜性能100%經過檢驗,它可以通過電腦對每一片玻璃的縱向及記錄和保存測量數據、測量時間、類型、批次,定時打印存檔,是產品質量追溯和出具質量合格證依據之一。對于生產低輻射玻璃,該系統還能在線非接觸性準確測量產品的面阻值。

具體如下圖所示(shi)

單銀/雙銀Low-E鍍膜生產線

圖6-1在(zai)線光學檢測系統

3.7、在線噴(pen)粉機

3.8、自動下片臺

3.9、人工下片臺


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